摘要
本申请公开了一种管控芯片版图的方法、电子设备及计算机可读存储介质。其中,所述方法包括:获取光罩制程中的芯片的掩膜层版图,其中掩膜层版图是由芯片的初始版图经逻辑运算得到的;对掩膜层版图进行工艺弱点问题的检测;以及基于通过检测的掩膜层版图制备所述光罩。通过本申请的方案,基于对掩膜层版图的工艺弱点问题的检测,可以最大程度上的检出版图中的工艺弱点,从而确保所制备的光罩的有效性,进而提升后续利用光罩所制备的芯片的良率。
技术关键词
版图
掩膜
光罩制程
芯片
可读存储介质
电子设备
计算机
处理器
指令
高风险
有效性
程序
存储器
参数