基于机器学习的集成电路工艺参数优化方法及系统

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基于机器学习的集成电路工艺参数优化方法及系统
申请号:CN202411561587
申请日期:2024-11-04
公开号:CN119067028B
公开日期:2025-05-02
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于机器学习的集成电路工艺参数优化方法及系统,涉及集成电路技术领域,包括:获取制程历史数据,构建制程工艺知识图谱求解实体和关系间的语义相似性,提取关键工艺知识并构建先验知识库;确定工艺参数与良品率之间的因果依赖关系,设置因果特征选择准则,筛选关键因果特征子集,扩充制程工艺知识图谱,构建异构模型集成并确定工艺参数与良品率的动态变化;构建多目标优化模型并设置优化目标,进行工艺参数优化求解,生成优化工艺参数并进行迁移学习,对工艺节点进行比较和映射,构建虚拟仿真系统并进行因果干预,生成工艺参数优化决策并修正贝叶斯因果模型。
技术关键词
制程 关键工艺参数 优化工艺参数 学习算法 语义 生成工艺 进化优化算法 虚拟仿真系统 异构 知识图谱构建方法 节点 集成电路工艺 参数优化方法 数据挖掘技术 特征选择 工艺设备 映射方法 实体
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