一种激光熔覆制备高强度低热膨胀因瓦合金的方法及高强度低热膨胀因瓦合金

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一种激光熔覆制备高强度低热膨胀因瓦合金的方法及高强度低热膨胀因瓦合金
申请号:CN202411572838
申请日期:2024-11-06
公开号:CN119426621A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种激光熔覆制备高强度低热膨胀因瓦合金的方法及高强度低热膨胀因瓦合金。本发明的激光熔覆制备高强度低热膨胀因瓦合金的方法,在每一层打印过程中,在打印因瓦合金的同时,利用一辊压头朝打印方向沿打印的因瓦合金表面移动,辊压头对因瓦合金施加一定的载荷压力;该方法可显著细化因瓦合金晶粒,改善打印过程中残余应力分布,通过原位辊压引入塑性变形来控制打印过程中缺陷尺寸和数量,提高打印构件致密度;本发明在保证激光熔覆工艺制备因瓦合金构件在保证低热膨胀系数的前提下,大幅提高因瓦合金构件屈服强度。
技术关键词
合金粉末 激光熔覆工艺 合金构件 热处理炉 三维设计软件 低热膨胀系数 三维模型 压头 缺陷尺寸 载荷 参数 加热 压力 保温 速率 屈服
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