一种复杂地层高精度垂直沉降观测深孔钻探工艺

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推荐专利
一种复杂地层高精度垂直沉降观测深孔钻探工艺
申请号:CN202411576110
申请日期:2024-11-06
公开号:CN119434941A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及地质勘探技术领域,且公开了一种复杂地层高精度垂直沉降观测深孔钻探工艺,包括:地层预处理与注浆加固,实时监测钻头位置与姿态并优化钻进参数,采用机器学习算法智能预测钻探参数,实时监测钻具与地质变化并调整参数,故障识别与处理建议,钻孔质量检查,壁面强化处理,以及基于物联网的长期监测与维护;该工艺提高钻探精度、效率和安全性,确保钻孔质量长期稳定,本发明通过钻头定位与轨迹优化,提高定位精度,可以更准确地预测钻头的位置和轨迹,减少误差,能够根据地层特性实时调整钻进参数,提高钻进效率,通过优化钻孔壁面强化处理技术和工艺参数,能够增强钻孔壁面的稳定性和承载力,减少钻孔塌陷和变形的风险。
技术关键词
深孔钻探 钻探参数 钻进参数 壁面 实时监测数据 机器学习算法 三维定位算法 注浆 钻头 地质力学模型 远程监控技术 地质勘探技术 护壁堵漏 更换钻具 深度学习算法 监测钻孔 支持向量机
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