版图生成方法、装置和电子设备

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版图生成方法、装置和电子设备
申请号:CN202411581455
申请日期:2024-11-07
公开号:CN119623396A
公开日期:2025-03-14
类型:发明专利
摘要
本发明实施例提供一种版图生成方法、装置和电子设备,属于芯片技术领域。版图生成方法包括:获取芯片中待添加MIM电容的目标版图区域;根据所述目标版图区域中目标功能区域的类型,确定目标MIM电容添加方式;基于所述目标MIM电容添加方式对所述目标版图区域添加MIM电容,以生成新版图。本发明实施例通过设置不同的版图区域对应不同的MIM电容添加方式,使得MIM电容在整个芯片的面积取得最大化,提高芯片的MIM电容利用率,大大减小Finfet工艺中的芯片动态IR‑Drop,解决现有的Finfet工艺中动态IR‑Drop仍然较大,减小动态IR‑Drop的效果不理想的缺陷。
技术关键词
MIM电容 片上系统器件 版图生成方法 数字电源 生成装置 芯片 机器可读存储介质 电子设备 处理器 电路 计算机程序产品 动态 存储器 阵列 模块
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