一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备

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一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备
申请号:CN202411592914
申请日期:2024-11-08
公开号:CN119538858A
公开日期:2025-02-28
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种PCELL版图设计优化方法、装置、介质及设备,应用于芯片设计技术领域。通过获取包含工艺参数和图形可调参数的PCELL,进行灵活的版图绘制,从而获得当前PCELL的版图结构参数。利用这些参数构建三维器件仿真模型,并采用人工神经网络算法创建仿真紧凑模型以描述器件的电气行为。利用PCELL和仿真紧凑模型验证三维器件仿真模型的电学性能趋势。在验证通过时,进一步验证模块测试电路是否满足预设的PPA指标。如果满足,则固定当前PCELL版图结构参数。本发明通过构造和参数化方法整合工艺与设计需求,利用闭环反馈的仿真和验证,提升设计精度和工艺成熟度,缩短开发周期,并增强流程的可靠性和效率。
技术关键词
FinFET器件 人工神经网络算法 三维器件 版图设计优化方法 版图结构 仿真模型 金属图形 器件版图 工艺仿真 生成预测模型 测试电路 栅极 芯片设计技术 数据 硬件描述语言 鱼鳍 缩短开发周期 参数化方法
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