一种稀疏SiPM阵列反射材料填充方法

本发明涉及一种稀疏SiPM阵列反射材料填充方法，该方法包括：根据SiPM阵列中的芯片高度确定反射材料层数及每层反射材料的厚度；根据芯片长度和宽度确定每层反射材料的孔位尺寸；根据芯片中心坐标确定孔位中心坐标；根据每层反射材料的尺寸和孔位中心坐标进行切割；将反射材料按序多层叠加于稀疏SiPM阵列之间，以完成稀疏SiPM阵列反射材料的填充。其有益效果是，可以提高SiPM阵列反射材料的填充效率及减少死区面积，提高光子收集效率，进而提高了SIPM阵列探测器的性能，同时易返修，降低制作成本。