摘要
本发明属于LED显示芯片技术领域,公开了一种Micro LED显示芯片及其制备方法,本发明通过超快脉冲激光对外延片MQW层进行加工,从而使后续沉积加工制备出可以免ICP蚀刻的EBL层和P‑GaN层,使得构筑竖直分布LED显示芯片的制备方法大为简化,同时通过阴极浅槽网络和深通孔设计可以实现较大电流密度,能够有效防止光串扰。
技术关键词
GaN层
超快脉冲激光
LED显示芯片
驱动芯片
制作阴极
阳极
通孔
缓冲层
像素
电子显示屏
衬底
晶圆
上沉积
间距
面板
光斑
液滴
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