一种Micro LED显示芯片及其制备方法

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一种Micro LED显示芯片及其制备方法
申请号:CN202411643065
申请日期:2024-11-18
公开号:CN119153594B
公开日期:2025-02-28
类型:发明专利
摘要
本发明属于LED显示芯片技术领域,公开了一种Micro LED显示芯片及其制备方法,本发明通过超快脉冲激光对外延片MQW层进行加工,从而使后续沉积加工制备出可以免ICP蚀刻的EBL层和P‑GaN层,使得构筑竖直分布LED显示芯片的制备方法大为简化,同时通过阴极浅槽网络和深通孔设计可以实现较大电流密度,能够有效防止光串扰。
技术关键词
GaN层 超快脉冲激光 LED显示芯片 驱动芯片 制作阴极 阳极 通孔 缓冲层 像素 电子显示屏 衬底 晶圆 上沉积 间距 面板 光斑 液滴
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