一种曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒及其制备方法和应用

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一种曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒及其制备方法和应用
申请号:CN202411646842
申请日期:2024-11-18
公开号:CN119139499B
公开日期:2025-02-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒及其制备方法和应用;本发明的曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒由AIE荧光纳米颗粒和曲妥珠单抗偶联得到,所述AIE荧光纳米颗粒表面含有羧基和氨基中的至少一种,所述AIE荧光纳米颗粒内部负载有AIE分子;曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒的平均粒径为50‑300nm,分散系数为0.05‑0.25。本发明的曲妥珠单抗修饰的AIE荧光纳米颗粒用于乳腺癌肿瘤荧光靶向,在乳腺癌手术导航的过程中能够有效靶向乳腺癌肿瘤,实时成像,获得高信噪比和分辨率的图像,精准指示乳腺癌的病灶及边缘。
技术关键词
荧光纳米颗粒 AIE荧光 曲妥珠单抗 缓冲液 分子 指示乳腺癌 靶向乳腺癌 靶向造影剂 乳腺癌手术 氨基 去离子水 球形结构 肿瘤 过滤器 水相 真空 四氢呋喃
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