一种光罩缺陷识别方法

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一种光罩缺陷识别方法
申请号:CN202411650788
申请日期:2024-11-19
公开号:CN119540196A
公开日期:2025-02-28
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种光罩缺陷识别方法,属于光罩检测技术领域。该方法包括:S1、获取表面缺陷图像;S2、基于缺陷的成像特点,对表面缺陷图像预处理;S3、对预处理后的表面缺陷图像进行滤波算法修正;S4、对滤波算法修正后的表面缺陷图像进行色度学分析以获取微粒区域;S5、基于缺陷的形态学特征,对微粒区域进行分割得到缺陷孤岛;S6、对缺陷孤岛进行形态学分析以获取缺陷类型和缺陷尺寸。本发明提供的光罩缺陷识别方法,结合形态学和色度学分析方法自动处理表面缺陷图像提取缺陷孤岛,提高了缺陷识别的准确性,摆脱了不同设备成像系统差异的束缚,实现了自动批量处理,节约了量产环节人力、物力投入。
技术关键词
表面缺陷图像 光罩缺陷 识别方法 像素点 滤波算法 掩膜 缺陷尺寸 微粒 形态学特征 端点 光罩检测技术 分水岭算法 长宽比 中心线 线段 判断缺陷 坐标
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