OPC后的检测模型及其建立方法、优化OPC验证的方法

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OPC后的检测模型及其建立方法、优化OPC验证的方法
申请号:CN202411662360
申请日期:2024-11-20
公开号:CN119322424A
公开日期:2025-01-17
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种OPC后的检测模型及其建立方法、优化OPC验证的方法,所述OPC后的检测模型的建立方法,包括:获取OPC后的第一样品图形,第一样品图形在光刻后容易出现光刻胶顶部形貌失真;获取第一样品图形的光学模型及对应的失真等级;对光学模型采用不同曝光参数进行光刻仿真以获得不同失真等级的量测数据和量测图像,量测数据及量测图像包括反映光刻胶曝光后的顶部形貌的线宽及图像;将光学模型在不同曝光参数下对应的失真等级、量测数据和量测图像投入样品图形库建立检测模型,用于判定OPC后的版图数据中是否存在光刻胶的顶部形貌异常的图形。本发明用于优化对部分热点缺陷的检出效果及检出效率。
技术关键词
优化OPC验证 光刻胶 建立检测模型 版图 执行OPC验证 光强 参数 图像 曝光机台 指标 图案 数据 尺寸 视窗 热点 变量 光源
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