一种半导体不锈钢TTN膜的清洗装置及工艺

本发明公开了一种半导体不锈钢TTN膜的清洗装置及工艺，包括自动机械臂、浸泡篮、按工艺步骤顺序设置的化学混液浸泡槽一、纯水漂洗槽、高压水洗槽、化学混液浸泡槽二、纯水浸泡槽和吹干槽，所述自动机械臂设置在所有槽体的上方，工作端连接浸泡篮，所述化学混液浸泡槽一和化学混液浸泡槽二内设有超声波振板，所述高压水洗槽内设有高压水洗喷嘴，所述吹干槽内设有CDA高压喷嘴，该自动化清洗装置由浸泡槽、纯水槽、高压水洗、CDA吹扫等组成，部件在浸泡篮不再通过人工进行搬送和清洗，选择好需要的作业槽体，设备可以快速完成搬送和作业，清洗槽采用了外循环过滤装置，保证循环的药液的干净，内部采用的防腐超声波振板，利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体间接使污物层被分散、剥离而达到清洗目的；整个清洗装置采用了闭环流程作业，保证部件清洗的有效性。