基板处理设备

一种基板处理设备包括：转位模块，其包括被构造为接纳基板载体的装载口；以及处理模块，其连接到所述转位模块并且包括传送室、处理室和缓冲室。所述处理室连接到所述传送室并且所述缓冲室设置在所述转位模块与所述传送室之间。所述传送室包括被构造为在所述缓冲室与所述处理室之间传送基板的传送机器人。所述缓冲室包括缓冲框架、喷射喷嘴和至少一个缓冲侧传感器，所述缓冲框架包括多个缓冲槽，所述多个缓冲槽中的每一个缓冲槽被构造为存储相应基板，所述喷射喷嘴设置在所述缓冲框架上并且被构造为将状态改善气体喷射到所述多个缓冲槽中的缓冲槽中，所述至少一个缓冲侧传感器设置在所述缓冲框架上并且被配置为检测位于所述缓冲槽中的基板的状态。