一种腐蚀装置及腐蚀方法

本发明提供一种腐蚀装置及腐蚀方法，属于半导体材料表面处理技术领域。腐蚀装置包括支撑台、限位件、驱动组件、壳体和多个支撑件；多个支撑件相间隔的设置在支撑台的外周；限位件设置在支撑件背离支撑台的一侧，用于承载芯片；驱动组件具有驱动轴，驱动轴与支撑台背离限位件的一侧连接，驱动组件用于驱动支撑台旋转和/或驱动支撑台沿驱动轴的轴线方向移动；壳体限定出容纳腔，支撑件至少部分收容在容纳腔中。本发明提供的腐蚀装置能够使得芯片在容纳腔中腐蚀的过程中，避免腐蚀过程中产生的沉淀物覆盖在芯片表面，从而保证对芯片腐蚀的均匀性和腐蚀质量。