掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品

本申请公开了一种掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品，该生成方法包括：获取掩模版的待优化版图，待优化版图包括第一图形和第二图形，第一图形为待优化版图中的主设计图形，第二图形为基于主设计图形生成的多个亚分辨率辅助图形；将第一图形和第二图形输入预设的图形处理模型，基于图形处理模型对第一图形和第二图形进行图形处理，得到掩模版的设计图形，其中，图形处理包括以下至少一项：图形移动、图形缩小、图形放大、图形旋转、图形结合、图形删除、图形边处理、图形变形，能够提升在处理掩模版的图形时的效率。