一种电子束灰度光刻的低波前误差双闪耀光栅制作方法

本发明涉及一种电子束灰度光刻的低波前误差双闪耀光栅制作方法，该方法通过将电子束的剂量参数分解为平均剂量和剂量差，将光栅参数分解为光栅高度和光栅深度，构建了二者之间的数学模型。通过微分计算和最小二乘法拟合，优化了剂量参数与光栅高度、深度之间的关系，进而实现了目标光栅的高精度制作。具体步骤包括：首先分解剂量和光栅参数，并建立光栅高度、深度与剂量参数之间的第一数学模型；然后通过实验获取关系数据，并利用第二数学模型进行优化计算，最终得出目标光栅对应的剂量参数；最后，根据目标参数制作出低波前误差的双闪耀光栅。该方法能够有效降低波前误差，提高光刻精度，且具有较好的制造一致性，适用于高精度光栅的生产需求。