应用于泛半导体领域的整体设备效率提升方法和装置

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应用于泛半导体领域的整体设备效率提升方法和装置
申请号:CN202411741965
申请日期:2024-11-29
公开号:CN120805632A
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种应用于泛半导体领域的整体设备效率提升方法和装置,属于计算机技术领域。方法包括:获取目标设备的当前时刻的运行参数以及整体设备效率参数;基于K近邻模型、当前时刻的运行参数以及整体设备效率参数,获取参数优化方案,并基于当前时刻的运行参数以及整体设备效率参数,对目标设备的剩余使用寿命进行预测,获取维护建议;K近邻模型是基于目标设备稳定运行状态下多个历史时刻的所述运行参数以及整体设备效率参数构建的;可视化展示参数优化方案和维护建议。本申请公开的应用于泛半导体领域的整体设备效率提升方法,能解决人工方式确定出的调整整体设备效率的参数优化方案导致生产设备的生产制造效率不理想的问题。
技术关键词
整体设备效率 参数 K近邻 半导体 稳定运行状态 剩余使用寿命 索引 大语言模型 人工方式 提升装置 模块 图谱 因子
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