一种基于二轴MEMS扫描振镜的共聚焦显微图像畸变校正方法

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一种基于二轴MEMS扫描振镜的共聚焦显微图像畸变校正方法
申请号:CN202411804479
申请日期:2024-12-10
公开号:CN119648593B
公开日期:2025-09-16
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于二轴MEMS扫描振镜的共聚焦显微图像畸变校正方法。该方法包括:使用二轴MEMS扫描振镜的共聚焦显微镜获取原始图像,计算获得振镜法向量,计算获得入射光单位向量,计算获得反射光单位向量,计算投射到被扫描端面的坐标,坐标与像素联系与图像校正。本发明方法不仅能够去除MEMS振镜引入的畸变,还可以在未知被扫描端面姿态情况下校正其引入的畸变,进而获得无畸变的共聚焦图像。
技术关键词
图像畸变校正方法 MEMS扫描振镜 显微镜系统 扫描样品表面 线段 像素点 光电探测器 垂直度 端点 坐标 畸变校正算法 信号处理器 MEMS振镜 雪崩光电二极管 间距
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