一种单像素成像方法及系统

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推荐专利
一种单像素成像方法及系统
申请号:CN202411805695
申请日期:2024-12-10
公开号:CN119295860B
公开日期:2025-04-11
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学探测成像技术领域,尤其是涉及一种单像素成像方法及系统。包括获取光信号得到参考图像和目标光场信息并将其分别作为标记集和信号集,建立神经光场模型和特征提取网络;根据相同随机种子函数,将对应数据集,随机抽样分成训练集、测试集和验证集;以神经光场模型进行训练,经过训练得到损失函数的最小值小于设定阈值时,输出作为模型文件;采用验证集对训练的模型文件进行验证,得到准确率大于第一阈值范围则为合格,否则采用新的随机种子函数重复进行迭代模型训练及验证,本发明无复杂的光机结构和空间调制方式,可采用单像素传感器实现了物体的高精度成像,同时采用半监督深度学习算法,有利于提高训练速度,节省硬件资源。
技术关键词
光场模型 特征提取网络 单像素成像方法 光学组件 光敏薄膜 单像素探测器 多层感知器 图像生成单元 透射光 半监督深度学习 单像素成像系统 训练集 单像素传感器 探测成像技术 光信号 光斑 薄膜吸收率
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