晶圆后道工艺方法

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晶圆后道工艺方法
申请号:CN202411818922
申请日期:2024-12-11
公开号:CN119786421A
公开日期:2025-04-08
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种晶圆后道工艺方法,包括:S1、提供晶圆,晶圆包括相对的正面和背面;晶圆的背面固定在周圈带第一框架的第一粘膜上;对晶圆进行切割和清洗;S2、对切割和清洗后的晶圆进行自动光学检测;S3、将自动光学检测筛选的多个合格芯片从第一粘膜剥离,并将多个合格芯片的正面贴合在周圈带第二框架的第二粘膜上;S4、将贴合在第二粘膜上的晶圆转移到晶舟盒内;S5、将晶舟盒打包。由于晶圆正面贴合在第二粘膜上,晶圆正面有第二粘膜保护,防止晶圆在转移和运输过程中颗粒对晶圆表面造成损伤;能有效提升晶圆重构的产能,并减少出货晶圆表面颗粒的影响。去掉了分选后的清洗和缺陷分选工序,减少芯片缺陷分选时的压伤。
技术关键词
图像传感器晶圆 粘膜 芯片 晶圆表面颗粒 外观缺陷检测 衬底 刀片 正面 移动机构 贴装设备 翻转设备 切割机 晶舟盒 激光束 卡盘台 光电二极管 激光发射器 轮毂
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