一种无氰碱铜打底镀液及其制造方法

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一种无氰碱铜打底镀液及其制造方法
申请号:CN202411819455
申请日期:2024-12-11
公开号:CN119593030A
公开日期:2025-03-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种无氰碱铜打底镀液及其制造方法,本发明涉及镀液生产技术领域。包括以下重量组分:去离子水70‑80份,五水硫酸铜8‑12份,HEDP32‑50份,无水碳酸钾30‑60份,氢氧化钾溶液40‑60份,整平剂0.5‑2份,改性防腐剂0.5‑1.5份,光亮剂0.3‑1.5份,本申请通过,本申请通过无氰配方符合环保要求,减少对环境的污染,避免使用剧毒氰化物带来的环境风险,同时降低废水处理难度和成本,有利于可持续生产,改性防腐剂有效抑制霉菌生长,防止镀液发霉变质,延长镀液使用周期。其特殊制备方法使各成分协同作用,在防腐同时不影响镀层结合力,确保镀层质量稳定,保证生产连续性和稳定性。
技术关键词
多元线性回归模型 镀液 溶液 反应釜 防腐剂 羟基乙叉二膦酸 缓释增效剂 光亮剂 去离子水 整平剂 氢氧化钾 五水硫酸铜 乙醇 数据处理模块 抑制霉菌生长 拟合优度检验 混合液 碳酸钾 改性
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