一种低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液及其制备方法与应用

本发明提供一种低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液及其制备方法与应用，所述低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液包括重量配比如下的各组分：羟胺及其衍生物10‑30份；缓蚀剂1‑10份；有机碱20‑50份；螯合剂1‑10份；超纯水10‑20份；有机溶剂10‑30份。本发明还公开了低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液的制备方法，及其在清洗半导体芯片领域的应用。本发明低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液清洗条件温和、操作简单，对芯片腐蚀风险低，性能稳定，使用寿命长，在无需超声波工艺配合清洗的纯浸泡工艺条件下，仍能达到较高的清洗效率。本发明低腐蚀、高稳定的半导体芯片清洗液在清洗半导体芯片领域具有良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。