超表面的容差优化方法、电子设备及存储介质

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超表面的容差优化方法、电子设备及存储介质
申请号:CN202411844286
申请日期:2024-12-13
公开号:CN119918393A
公开日期:2025-05-02
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种超表面的容差优化方法、电子设备及存储介质,其中,所述方法包括:确定所述超表面的第一特征尺寸集;其中,所述超表面包括多个亚波长单元,所述第一特征尺寸集包括:所述多个亚波长单元中每一亚波长单元对应的第一特征尺寸;根据所述第一特征尺寸集和预设容差范围,构建多个特征尺寸集;计算每一所述特征尺寸集的超表面对入射光波的衍射效率;根据第一目标衍射效率和每一所述特征尺寸集的超表面对入射光波的衍射效率,构建目标函数;其中,所述目标函数反映了所述多个特征尺寸集中每一特征尺寸集的衍射效率与所述第一目标衍射效率之间的差异;根据所述目标函数,对所述第一特征尺寸集进行尺寸优化,得到并输出目标特征尺寸集。
技术关键词
尺寸 超表面 波长 光强度 计算机可执行指令 电子设备 处理器 可读存储介质 关系 存储器 算法
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