多重曝光掩膜图像集生成方法、装置、设备及存储介质

本申请涉及芯片制造技术领域，揭示了一种多重曝光掩膜图像集生成方法、装置、设备及存储介质，方法包括：获取初始掩膜图像；将初始掩膜图像输入至预先训练好的扩散模型中进行加噪处理和去噪处理；选定去噪处理的若干个步数作为选定步数；分别计算每两个相邻选定步数之间的累加图像差量，并分别生成每个累加图像差量对应的第一中间掩膜图像；将噪声图像叠加至任意一张第一中间掩膜图像上，生成叠加中间掩膜图像，并将被叠加的原第一中间掩膜图像更新为叠加中间掩膜图像，作为第二中间掩膜图像；将各张第二中间掩膜图像进行逐像素的二值化处理，将经过二值化处理的图像作为最终掩膜图像，实现了对初始掩膜图像的自动拆分。