一种对抗样本构造方法

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推荐专利
一种对抗样本构造方法
申请号:CN202411866799
申请日期:2024-12-18
公开号:CN119785145B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种对抗样本构造方法,包括:S1、获取目标图像,对所述目标图像进行分割,获取分割掩码;S2、将所述目标图像输入至生成器中,获取当前全局对抗扰动;S3、基于所述目标图像,结合所述分割掩码和当前全局对抗扰动,获取当前对抗样本;S4、将所述当前对抗样本和目标图像输入至代理模型,获取图像总损失;S5、将所述图像总损失输入至所述生成器,结合所述目标图像,获取新的全局对抗扰动;S6、返回S3,直至获取当前最优对抗样本。本发明引入图像分割模块,识别出关键区域。其次,仅针对关键区域添加扰动,在较少扰动的情况下构造对抗样本。
技术关键词
样本构造方法 纹理特征 图像分割模型 标签 像素 模块
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沪ICP备2023015588号