LED外延片及其制备方法、LED芯片

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LED外延片及其制备方法、LED芯片
申请号:CN202411869921
申请日期:2024-12-18
公开号:CN119767882A
公开日期:2025-04-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光电技术领域,公开了一种LED外延片及其制备方法,包括以下步骤:S1、提供衬底;S2、在所述衬底上依次沉积缓冲层、N型GaN层、多量子阱层、P型GaN层;其中,所述P型GaN层采用下述方法制得:步骤1,生长P型GaN子层;步骤2,通入N2和TMIn对所述P型GaN子层进行退火处理;重复所述步骤1和步骤2至少1次,完成P型GaN层的生长。本发明提供的LED外延片能够提升发光效率。
技术关键词
LED外延片 P型GaN层 LED芯片 多量子阱层 衬底 缓冲层 压力 光电
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