一种三维芯片的工艺仿真方法及系统

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一种三维芯片的工艺仿真方法及系统
申请号:CN202411879681
申请日期:2024-12-19
公开号:CN119830823B
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及工艺仿真术领域,具体公开了一种三维芯片的工艺仿真方法及系统,包括以下步骤:步骤S1:获取加工周期,根据设定的时间间隔阈值选取若干节点,并获取每个节点处的物理参数和环境指标;将物理参数与相应的环境指标关联起来,形成加工数据;步骤S2:收集全部的历史加工数据,并对每个节点进行编号,生成物理参数随时间变化的加工变化曲线;计算这些曲线的平均变化率,并结合历史数据中相关联的环境指标值,生成参数变化曲线;步骤S3:获取仿真过程中的环境指标,并将其与历史加工数据中的环境指标进行比较;步骤S4:持续监测物理参数,得到当前的加工变化曲线及其平均变化率,计算差异值。
技术关键词
工艺仿真 指标 物理 仿真环境 曲线 待测环境 相关系数阈值 芯片 生成参数 节点 周期 坐标点 参数随时间 数据处理模块 数据采集模块 粗糙度 仿真数据 表达式
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