光刻机中曝光系统的动态补偿方法、光刻机、设备及介质

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光刻机中曝光系统的动态补偿方法、光刻机、设备及介质
申请号:CN202411880304
申请日期:2024-12-19
公开号:CN119535909A
公开日期:2025-02-28
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种光刻机中曝光系统的动态补偿方法、光刻机、设备及介质,涉及光刻机技术领域。该方法包括:接收前端模块发送的光强探测器感应的光强信号;根据预设补偿算法获取光强信号对应的补偿参数,补偿参数包括下述至少一种:电压补偿参数、时间补偿参数;根据光强信号和光强信号对应的补偿参数,向前端模块发送调节指令,以使前端模块根据调节指令调节光源模块的光源强度和/或曝光时间,可以在曝光系统中实现动态补偿,使得实际曝光更加符合预期设计要求,从而提高最终产品的质量,提高曝光系统的稳定性和可靠性。
技术关键词
剂量控制单元 动态补偿方法 光强探测器 电压补偿 曝光系统 参数 信号 光源模块 补偿算法 接收前端模块 传输线路 机器可读指令 光刻机技术 脉冲 处理器
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