片上超构表面及其设计方法

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片上超构表面及其设计方法
申请号:CN202411890334
申请日期:2024-12-20
公开号:CN119758588A
公开日期:2025-04-04
类型:发明专利
摘要
本发明属于微纳光学技术领域,公开了片上超构表面及其设计方法。本发明提供的片上超构表面的单元结构包括基底层、波导层和设置在波导层的工作面上的一个纳米柱,纳米柱的长轴、短轴分别与x轴、y轴平行,片上超构表面包含的所有纳米柱的高度相同;片上超构表面包含的若干纳米柱构成一组或多组纳米柱阵列,每组纳米柱阵列包含的所有纳米柱的几何尺寸相同,不同组类的纳米柱阵列包含的纳米柱的几何尺寸不同;针对每组纳米柱阵列,光以横磁模式由波导层入射,以出射光中某一目标波长的提取效率最高且对其他波长提取效率最低为优化目标,确定该组纳米柱阵列中纳米柱的几何尺寸。本发明能够实现某一波长范围或多组波长范围的选择性提取。
技术关键词
纳米柱阵列 波导 波长 全息图像 微纳光学技术 横磁模 基底层 GS算法 尺寸 位置提取 周期 像素点 短轴 长轴 级联 参数 显微镜 光栅
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