摘要
本发明公开了一种原位测量三端器件可靠性的透射电镜制样方法,主要解决现有技术电极连接难和离子束损伤重的问题。其实现方案为:将待测器件置入聚焦离子束扫描电镜;调节图像确定取样位置;用离子束斜切待测器件暴露出电极截面;在器件的源极和栅极之间沉积Pt层,引出栅极;在Pt层上沉积SiO2层,减少离子束对样品的损伤;将试样薄片从器件上转移至微机电系统芯片上;在试样薄片与微机电系统芯片的接触处再次沉积Pt层,并将试样薄片与芯片连接;对试样薄片和芯片选区刻蚀,以使试样薄片的三端电极相互断路;通过离子将试样薄片减薄至电子透明。本发明具有高效率和可视化的特点,且成本低,时效性高,可用于实时观察晶体管三端器件退化和失效时的微观结构变化。
技术关键词
离子束
透射电镜制样方法
薄片
晶体管
MEMS芯片
垂直轴旋转
电极
电子束
机械手提取
栅极
沉积源
SiO2保护层
原位透射电镜
系统芯片
扫描电镜
样品台
待测器件
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