一种跟踪扫描测量系统及平台

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一种跟踪扫描测量系统及平台
申请号:CN202411901083
申请日期:2024-12-23
公开号:CN119756221B
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种跟踪扫描测量系统及平台,该跟踪扫描测量系统包括二维测角驱动装置、接触激光跟踪仪、非接触激光扫描仪和控制装置,控制装置与接触激光跟踪仪、非接触激光扫描仪和二维测角驱动装置均连接,用于在跟踪坐标测量模式下,通过控制二维测角驱动装置带动激光跟踪仪实时跟踪设定的跟踪合作目标,通过二维测角与激光干涉测距数据相结合以获取所述跟踪合作目标与所述待测量面的接触点的坐标数据,扫描测量模式下,通过控制二维测角驱动装置带动非接触激光扫描仪扫描待测量面,通过二维测角与绝对测距数据相结合以获取待测量面扫描点云数据。本发明可以通过一台仪器实现高精度跟踪坐标测量和高效率扫描测量,显著提升检测效率。
技术关键词
水平回转轴 测距模块 氦氖激光器 回转驱动机构 角接触轴承 信号处理单元 摄远物镜 激光扫描仪 俯仰电机 准直镜 光纤 平衡探测器 旋转支撑架 扫描路径规划 透镜组件 扫描点云数据 散热连接件 激光跟踪仪
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