一种喷涂控制方法、装置、电子设备及存储介质

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一种喷涂控制方法、装置、电子设备及存储介质
申请号:CN202411913453
申请日期:2024-12-24
公开号:CN119368354B
公开日期:2025-04-22
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种喷涂控制方法、装置、电子设备及存储介质,应用于压铸件喷涂技术领域,通过对压铸件表征参数的实时、精确监测,建立表征参数与喷涂参数之间的动态映射关系,根据压铸件表面的实际喷涂效果进行自适应调整,保证涂层质量的一致性和可靠性,并具有有效的反馈机制和自学习能力,能够根据实际喷涂效果的偏差不断优化控制策略,以应对压铸件表面特性的长期演变的优点。
技术关键词
喷涂控制方法 粗糙度参数 时间序列模型 偏差 关系 压铸件喷涂技术 数学模型 涂层 喷涂控制装置 优化控制策略 数据 电子设备 校正模块 计算机 处理器 指标 动态
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