光学压力传感芯片及其制备方法和传感器

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推荐专利
光学压力传感芯片及其制备方法和传感器
申请号:CN202411918589
申请日期:2024-12-24
公开号:CN119803740A
公开日期:2025-04-11
类型:发明专利
摘要
本公开涉及压力传感器的技术领域,具体提供一种光学压力传感芯片及其制备方法和传感器,旨在解决现有光学压力传感芯片的结构较为脆弱的问题。为此目的,本公开提供的光学压力传感芯片包括端面耦合结构,端面耦合结构包括:衬底、第一包层、第一波导层、第二包层、第二波导层和第三包层,第二包层具有空腔,第一波导层的部分暴露于空腔的底部;第二波导层暴露于空腔的顶部;第三包层具有与空腔连通的第一开口,第一开口露出第二波导层的一端使第二波导层形成悬臂梁结构。本公开在衬底的正面设置第一波导层和第二波导层以层间耦合结构,无需在衬底的背面进行加工,结构稳固性较高。
技术关键词
压力传感芯片 波导 耦合结构 悬臂梁结构 光学压力传感器 衬底 深槽结构 包层材料 空腔 腔体 金属互联结构 内部中空 掩膜 基底 层暴露 输出光 层叠 光信号
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