一种实现均匀沉积的喷射成形多喷嘴工艺参数优化方法

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一种实现均匀沉积的喷射成形多喷嘴工艺参数优化方法
申请号:CN202411920526
申请日期:2024-12-25
公开号:CN119989629A
公开日期:2025-05-13
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种实现均匀沉积的喷射成形多喷嘴工艺参数优化方法,包括所优化的工艺参数为对沉积均匀性有着显著影响的各个喷嘴所包含的偏心距e、金属流率ψ、初始倾斜角α和扫描范围角β,该方法包括如下步骤:S1、建立多喷嘴扫描界面沉积数值模型;S2、确定参数约束及边界条件;S3、多喷嘴参数遗传算法优化。本发明有效地解决了诸多工艺参数之间的耦合和相互影响,使多喷嘴喷射成形过程中沉积表面的物质分布更加均匀,可有效提高锭坯致密度及组织均匀性。
技术关键词
工艺参数优化方法 遗传算法优化 成形 偏心距 扫描机构 微尺度 连杆机构 坐标 界面 数值 熔体 单层 凸轮 变量 编码 组织 顶板 定义
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