摘要
本发明属于微电子封装技术领域,具体涉及一种晶圆级芯片3D封装引出结构及制备方法。先在基体正面制备第一槽图形,再制备第一导电层、第一金属层和第一绝缘层,形成第一重布线层;通过在芯片背面打刻蚀孔,打到基体正面pad上形成垂直互连;然后在基体背面再次加工第二槽图形,同样地制备出第二金属层和第二绝缘层,形成第二重布线层;切割后,上下两个槽图形从中间被分割开,侧边通过pad附近的斜凹槽做外引出,形成侧边互连。在为芯片提供垂直互连的同时解决了侧边互连问题,为异质异构3D集成提供了额外的连接路径,实现更优异的电学性能。
技术关键词
划片道区域
基体
导电层
布线
芯片
光敏树脂
显影机
金属沉积系统
金属化
微电子封装技术
划片方法
正面
光刻胶
涂覆
沉积方法
互连结构
印刷方法
金属结构
涂胶机
物理