摘要
本申请公开了一种碳化硅大尺寸晶体生长热场温度控制方法、系统、设备、介质及产品,涉及晶体生长领域,该方法包括:计算当前工况下的加热功率;根据历史工况加热功率表确定加热功率平均值、加热功率限值和报警值;基于当前工况下的加热功率和加热功率平均值计算加热功率设定值;基于加热功率设定值和实际反馈加热功率,采用一阶PID控制算法计算第一控制功率;基于热场温度设定值和实际反馈热场温度,采用二阶PID控制算法计算第二控制功率;对第一控制功率和第二控制功率进行叠加,并限幅在加热功率限制值之内,得到加热功率控制值,对碳化硅大尺寸晶体生长热场的温度进行控制。本申请能够提高温度场的稳定性,有利于碳化硅大尺寸晶体生长。
技术关键词
大尺寸晶体生长
温度控制方法
碳化硅
加热
功率表
PID控制算法
功率控制
工况
温度控制模块
数学模型
温度控制系统
处理器
坩埚
计算机程序产品
计算机设备
保温材料
工件
可读存储介质
系统为您推荐了相关专利信息
步进式加热炉
预警控制方法
实时信号
预警控制系统
HMI画面
海上风电桩基
加热测温光缆
动态监测方法
注意力神经网络
测温单元