一种碳化硅大尺寸晶体生长热场温度控制方法、系统、设备、介质及产品

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一种碳化硅大尺寸晶体生长热场温度控制方法、系统、设备、介质及产品
申请号:CN202411957485
申请日期:2024-12-30
公开号:CN120041934A
公开日期:2025-05-27
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种碳化硅大尺寸晶体生长热场温度控制方法、系统、设备、介质及产品,涉及晶体生长领域,该方法包括:计算当前工况下的加热功率;根据历史工况加热功率表确定加热功率平均值、加热功率限值和报警值;基于当前工况下的加热功率和加热功率平均值计算加热功率设定值;基于加热功率设定值和实际反馈加热功率,采用一阶PID控制算法计算第一控制功率;基于热场温度设定值和实际反馈热场温度,采用二阶PID控制算法计算第二控制功率;对第一控制功率和第二控制功率进行叠加,并限幅在加热功率限制值之内,得到加热功率控制值,对碳化硅大尺寸晶体生长热场的温度进行控制。本申请能够提高温度场的稳定性,有利于碳化硅大尺寸晶体生长。
技术关键词
大尺寸晶体生长 温度控制方法 碳化硅 加热 功率表 PID控制算法 功率控制 工况 温度控制模块 数学模型 温度控制系统 处理器 坩埚 计算机程序产品 计算机设备 保温材料 工件 可读存储介质
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