摘要
本申请公开了一种碳化硅大尺寸晶体生长热场温度控制方法、系统、设备、介质及产品,涉及晶体生长领域,该方法包括:计算当前工况下的加热功率;根据历史工况加热功率表确定加热功率平均值、加热功率限值和报警值;基于当前工况下的加热功率和加热功率平均值计算加热功率设定值;基于加热功率设定值和实际反馈加热功率,采用一阶PID控制算法计算第一控制功率;基于热场温度设定值和实际反馈热场温度,采用二阶PID控制算法计算第二控制功率;对第一控制功率和第二控制功率进行叠加,并限幅在加热功率限制值之内,得到加热功率控制值,对碳化硅大尺寸晶体生长热场的温度进行控制。本申请能够提高温度场的稳定性,有利于碳化硅大尺寸晶体生长。
技术关键词
大尺寸晶体生长
温度控制方法
碳化硅
加热
功率表
PID控制算法
功率控制
工况
温度控制模块
数学模型
温度控制系统
处理器
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