低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置

本申请涉及一种低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置，包括：构建膜厚预测模型，膜厚预测模型用于指示控制单元的第一工艺参数和控制单元的膜厚预测值之间的关系；将膜厚预测模型代入目标函数模型，得到控制单元的工艺参数优化模型；在约束条件下对目标函数模型进行优化，得到满足约束条件且目标函数模型输出处于第一阈值范围时，控制单元的第一工艺参数的最优值。本申请提供的方案，能够实时调整LPVCD镀膜设备的工艺参数，减少工艺过程中特种气体的消耗量，能够提高产能。