缓冲室和包括缓冲室的衬底处理设备

本发明涉及一种能够将缓冲单元的气氛保持在低湿度的缓冲室以及包括所述缓冲室的衬底处理设备。根据一个实施例，所述衬底处理设备包括：处理衬底的处理模块；以及转位模块，其将衬底从容纳衬底的容器传送到处理模块并将在处理模块中处理的衬底放入容器中，其中处理模块包括：传送室，其具有将衬底传送到处理模块的传送单元；以及缓冲室，其设置在转位模块和传送室之间，并且衬底临时放置在缓冲室中，其中缓冲室包括：提供等候空间的壳体；门，其打开和关闭所述壳体；缓冲单元，在所述缓冲单元中，衬底被放置在等候空间中；供气单元，其向等候空间供应气体；和排放单元，其使等候空间进行排放，并且传送室和转位模块中的压力彼此不同。