一种干法刻蚀设备

本实用新型公开了一种干法刻蚀设备，涉及芯片生产技术领域，包括封闭的反应腔和气源，气源的输出口与反应腔连通，反应腔内安装有调速板，调速板上开设有多组出气孔，出气孔上对应安装有用于调节出气孔出气时间的调速装置；调速装置包括开关门，开关门通过涡卷弹簧安装在调速板上，开关门另一侧的调速板还安装有电磁线圈，开关门靠近电磁线圈一端安装有磁铁。本装置在气体电离前进行净化去除杂质，提高电离质量；通过填料塔的设置，使得反应腔内的气体更均匀，提供刻蚀均匀性；设置调速板和调速装置，使得不同位置处的气体可以控制，达到更好的刻蚀效果。