镀膜设备

本实用新型提供了一种镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域。该镀膜设备用于对产品镀膜，包括镀膜装置和出入料装置，镀膜装置，包括第一成膜机构、交互机构和第二成膜机构，第一成膜机构包括第一成膜室，交互机构包括交互室，第二成膜机构包括第二成膜室，交互室与第一成膜室和第二成膜室均连通；出入料装置，包括出入料室，出入料室与交互室连通，或者，出入料室与第一成膜室连通，或者，出入料室与第二成膜室连通，能够用于向镀膜装置上料及从镀膜装置出料。该镀膜设备可以降低生产成本，并提升已镀膜产品的外观良率。