吸嘴结构和芯片吸附设备

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吸嘴结构和芯片吸附设备
申请号:CN202421882693
申请日期:2024-08-05
公开号:CN222927463U
公开日期:2025-05-30
类型:实用新型专利
摘要
本实用新型提供的一种吸嘴结构和芯片吸附设备,涉及半导体技术领域,该吸嘴结构包括吸嘴底座和吸嘴头,吸嘴头可拆卸地安装在吸嘴底座上,吸嘴底座具有外接气槽,吸嘴头内设置有气腔槽,气腔槽连通至外接气槽,且吸嘴头具有相对的吸附端面和安装端面,安装端面对应贴合于吸嘴底座,吸附端面的中心设置有连通气槽,且连通气槽和边缘气槽均与气腔槽连通。相较于现有技术,本实用新型通过增设气腔槽,能够作为气体储存空间,从而能够提升边缘气槽和连通气槽的吸附气压,进而提升吸附力,保证吸附效果。同时,采用边缘气槽和连通气槽的双气槽结构,能够提升边缘吸附力,在保证吸附效果的同时,提升芯片的贴装和分离效率。
技术关键词
芯片吸附设备 吸嘴结构 底座 通气槽 贴装头 机台 尺寸 气压 气管 真空 矩形 气体 环形
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