一种晶圆清洗装置

本实用新型属于晶圆清洗技术领域，公开了一种晶圆清洗装置，包括清洗室和清洗机构，清洗室形成清洗晶圆的空间，清洗机构包括角度调节部和喷液部，喷液部安装于角度调节部，能够喷射清洗液，清洗液能够与晶圆表面的污染物反应以对晶圆进行清洗，角度调节部用于调节喷液部的朝向，喷液部用于清洗晶圆和/或清洗室的内壁，喷液部朝向晶圆时，能够实现对晶圆的清洗，喷液部朝向清洗室的内壁时，能够实现对清洗室内壁的清洗，清洗机构可以单独用来清洗晶圆或清洗室的内壁，也可以在晶圆清洗过程中同时清洗晶圆和清洗室的内壁，防止附着于清洗室内壁的污染物会脱落附着于晶圆表面，影响晶圆制作工艺的良品率。