超薄硅晶圆与载体的复合结构的切割方法

AITNT
正文
推荐专利
超薄硅晶圆与载体的复合结构的切割方法
申请号:CN202510002105
申请日期:2025-01-02
公开号:CN119858241A
公开日期:2025-04-22
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种超薄硅晶圆与载体的复合结构的切割方法,包括:采用砂轮切割工艺对复合结构的正面进行切割,在切割处依次将超薄硅晶圆和键合胶层完全切透,形成划痕;采用激光切割工艺对复合结构的背面对准划痕的位置进行切割,将划痕处的载体切透,形成多个芯片颗粒。本发明中,结合了砂轮切割工艺和激光切割工艺两种传统工艺的优点,且规避了其缺点对超薄硅晶圆与载体的复合结构带来的不良影响,具有较高的可行性与容错率,便于对复合结构进行切割操作,且切割的成本低、效率高。
技术关键词
复合结构 切割方法 激光切割工艺 载体 砂轮 承载膜 硅晶圆表面 切割刀片 正面 切割片 芯片 玻璃 速率
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号