基于双层胶的微纳器件制备方法

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基于双层胶的微纳器件制备方法
申请号:CN202510054745
申请日期:2025-01-14
公开号:CN119873734A
公开日期:2025-04-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了基于双层胶的微纳器件制备方法,通过黏附层电子束光刻胶和表层电子束光刻胶的双层胶设计,实现更好的去胶。本发明既能使用HSQ作为电子束光刻胶,又能避免后续去胶工艺对芯片造成影响。基于双层胶的微纳器件制备方法对提高HSQ在光学或光电子器件中的性能有积极作用,特别是在需要高Q因子的应用中,如光学谐振腔、滤波器或传感器等。总的来说,基于双层胶的微纳器件制备方法能够显著提高芯片的光学品质,同时保持了其基本光谱特征,这对于精密光学应用具有重要意义。
技术关键词
电子束光刻胶 光学谐振腔 显影液 去胶工艺 微纳器件 精密光学 三氯乙烯 去胶液 电子器件 砷化镓 非晶硅 射频 基底 氮化硅 气压 腔体 滤波器 芯片 电压
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