摘要
本发明公开了基于双层胶的微纳器件制备方法,通过黏附层电子束光刻胶和表层电子束光刻胶的双层胶设计,实现更好的去胶。本发明既能使用HSQ作为电子束光刻胶,又能避免后续去胶工艺对芯片造成影响。基于双层胶的微纳器件制备方法对提高HSQ在光学或光电子器件中的性能有积极作用,特别是在需要高Q因子的应用中,如光学谐振腔、滤波器或传感器等。总的来说,基于双层胶的微纳器件制备方法能够显著提高芯片的光学品质,同时保持了其基本光谱特征,这对于精密光学应用具有重要意义。
技术关键词
电子束光刻胶
光学谐振腔
显影液
去胶工艺
微纳器件
精密光学
三氯乙烯
去胶液
电子器件
砷化镓
非晶硅
射频
基底
氮化硅
气压
腔体
滤波器
芯片
电压