一种双选择性全无机辐射制冷薄膜及其制备方法

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一种双选择性全无机辐射制冷薄膜及其制备方法
申请号:CN202510087409
申请日期:2025-01-20
公开号:CN119826389A
公开日期:2025-04-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种双选择性全无机辐射制冷薄膜及其制备方法,薄膜包括黏附层、金属反射层和多层介质膜层,其中:所述黏附层设置于底层,所述黏附层上表面设置所述金属反射层,所述金属反射层上表面设置所述多层介质膜层;所述多层介质膜层包括两种折射率相差大于预设阈值的材料按预设厚度以预设排列方式组成的准周期多层薄膜结构,其中所述多层介质膜层的层数、预设排列方式以及预设厚度根据双大气透射窗口选择性发射的理想光谱作为优化目标优化而得。本发明的辐射制冷薄膜在太阳光谱范围内具有高反射的特性,同时在第一大气窗口和第二大气窗口均可选择性地发射红外线,从而具有比现有辐射制冷发射体具有更高的制冷潜力。
技术关键词
辐射制冷薄膜 金属反射层 模拟退火遗传算法 多层薄膜结构 磁控溅射方法 电感耦合离子体 介质 磁控溅射技术 气相沉积工艺 发射率 电子束 发射体 上沉积 周期 太阳 射频 纳米 矩阵 定义
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