水处理除氟剂及其制备方法和应用

本发明涉及水处理除氟剂生产技术领域，具体为水处理除氟剂及其制备方法和应用。本发明针对半导体芯片制造蚀刻工艺产生的含氟、铜、铁离子的废水，通过添加特定的原料和采用合理的处理步骤，不仅能有效去除氟离子，还能兼顾铜、铁离子的去除或降低其对除氟的影响（特别是对经硫化钠这类专门去除铜、铁离子的去除剂简单处理后的废水），对特定水质的蚀刻废水具有很强的针对性和适用性；协同性好，兼具可操作性与灵活性，保证了处理效果。