摘要
一种存储装置及其制造方法,所述制造方法包括:提供阵列基底;在所述阵列基底的第一表面形成开关器件;在所述第一表面形成开关器件之后,在所述第一表面上键合控制芯片;在所述第一表面上键合控制芯片之后,在所述阵列基底的第二表面上形成存储电容,其中,所述第二表面和所述第一表面相背设置。键合控制芯片之后,再形成存储电容,能够有效增加存储电容形成之前的制造工艺步骤,使得更多的工艺步骤解除存储电容中材料的限制,能够有效降低存储装置的制造工艺难度,能有效扩大存储装置的制造工艺窗口;而且键合控制芯片之后,以所述控制芯片提供机械支撑形成存储电容,能够省去额外提供的承载晶圆,能够有效降低所述存储装置的制造成本。
技术关键词
开关器件
存储电容
栅极沟槽
栅极结构
隔离沟槽
控制芯片
位线
存储装置
切割沟槽
引线连接结构
阵列
基底
介质
存储单元
机械支撑
电极
掺杂区
系统为您推荐了相关专利信息
氮化镓晶体管
降压式变换器
数学模型
粒子群优化算法
电阻
新能源逆变器
动力电机
动力电池
决策
电池储能模组