存储装置及其制造方法

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存储装置及其制造方法
申请号:CN202510121948
申请日期:2025-01-24
公开号:CN119855152A
公开日期:2025-04-18
类型:发明专利
摘要
一种存储装置及其制造方法,所述制造方法包括:提供阵列基底;在所述阵列基底的第一表面形成开关器件;在所述第一表面形成开关器件之后,在所述第一表面上键合控制芯片;在所述第一表面上键合控制芯片之后,在所述阵列基底的第二表面上形成存储电容,其中,所述第二表面和所述第一表面相背设置。键合控制芯片之后,再形成存储电容,能够有效增加存储电容形成之前的制造工艺步骤,使得更多的工艺步骤解除存储电容中材料的限制,能够有效降低存储装置的制造工艺难度,能有效扩大存储装置的制造工艺窗口;而且键合控制芯片之后,以所述控制芯片提供机械支撑形成存储电容,能够省去额外提供的承载晶圆,能够有效降低所述存储装置的制造成本。
技术关键词
开关器件 存储电容 栅极沟槽 栅极结构 隔离沟槽 控制芯片 位线 存储装置 切割沟槽 引线连接结构 阵列 基底 介质 存储单元 机械支撑 电极 掺杂区
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