发光结构及其制备方法

本申请涉及一种发光结构及其制备方法，包括：提供衬底；在芯片区上形成彼此间隔设置的第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元；刻蚀芯片区，形成暴露像素单元且彼此间隔设置的第一像素槽、第二像素槽和第三像素槽，第一像素槽、第二像素槽和第三像素槽分别与第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元相对应；芯片区的未被去除的部分形成为隔离挡墙，第一隔离挡墙位于第一像素槽、第二像素槽和第三像素槽任意二者之间，第二隔离挡墙位于芯片区的边缘区域；在第二表面上形成覆盖像素槽的滤光层，第一滤光层覆盖第一像素槽，第二滤光层覆盖第二像素槽；在隔离挡墙上形成消光层。由此，提高了发光结构的显示对比度。