一种无掩膜光刻机的对焦方法及装置

本发明涉及光学技术技术领域，具体涉及一种无掩膜光刻机的对焦方法及装置，包括以下步骤：S1：确定位移台的初始位置，并采集初始位置的光强：S2：控制位移平台在z轴上移动，并采集光强确定光强最大值时的位置；S3：驱动位移台移动至与光强最大值间隔一个粗步长的位置；S4：使用爬山法进行粗定位确定焦平面的大概位置；S5：焦平面的细定位：设定一个细步长，在步骤S4附近±一个粗步长，驱动位移台按照细步长的长度在此区间移动，并获得最大的光强为P1；S6：确定最佳正焦位置：在焦点附近继续采用爬山法搜寻最佳焦点位置，计算每次的评价函数值，将本次计算值与数据库比较，依据函数值变化确定搜索方向和步长，高校寻找正焦位置。