一种激光退火方法及装置

本申请涉及半导体芯片制造领域，本申请提供了一种激光退火方法及装置，本申请的方案为：提供激光，激光能够在基板上形成沿第一方向延伸的条形或线形照射区域；使用激光对基板沿第二方向进行交叠的步进式脉冲照射，以对基板进行激光退火，第二方向垂直于第一方向，且将基板沿第二方向上不同周期之间的步长减少，这使得激光束能量在一定周期内对基板进行多次激光照射时，调整了激光束能量照射在基板上的重叠部分，从而将激光束的低能量部分在基板上转化成高能量，以使其在基板上的结晶与激光束的高能量部分的结晶效果保持一致，实现基板上的结晶高度均匀，从而提高芯片的生产工艺效果，工艺窗口变宽。